Di area pengolahan wafer SiC, terdapat wafer berdiameter 150 mm yang berada di dalam alat litografi, siap untuk proses pemanasan menggunakan bahan fotoresist. Perubahan suhu sebesar beberapa derajat saja dapat mengacaukan kontrol dimensi wafer, dan hal ini tentu akan merugikan Anda secara finansial. Oleh karena itu, lampu pemanas tersebut tidak boleh sekadar menjadi sumber panas biasa; ia harus berfungsi sebagai alat pemanas yang dapat memberikan hasil yang konsisten setiap kali digunakan.
Hal-hal penting yang perlu diperhatikan Lampu pemanas untuk pengolahan wafer SiC ini dibuat menggunakan emitter inframerah berpanjang gelombang pendek yang terletak di dalam selubung kuarsa. Desainnya memungkinkan respons yang cepat dan keluaran yang stabil. Konsistensi suhu pada wafer mencapai ±0,1°C di seluruh area pemanasan, sedangkan tingkat repetibilitasnya mencapai ±0,5°C antara satu batch produksi dengan batch lainnya. Density dayanya disesuaikan dengan kebutuhan proses pemanasan fotoresist, sehingga profil termalnya tetap stabil bahkan setelah digunakan selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan keluaran kurang dari 5%. Kemasan lampu ini cocok untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan sambungan yang rapat dan lapisan pelindung yang mencegah munculnya partikel selama proses operasi.
Mengapa lampu ini cocok untuk pengolahan wafer SiC Proses pengolahan wafer SiC memerlukan kontrol suhu yang sangat ketat, dan biaya per wafer pun cukup tinggi. Lampu ini memberikan presisi yang diperlukan agar proses pemanasan fotoresist berjalan secara optimal, sehingga mengurangi risiko pembuangan material atau perlu dilakukannya proses perbaikan ulang. Kecepatan pemanasan yang tinggi mempersingkat waktu proses, sedangkan stabilitas emisi panasnya membantu menghemat energi. Desain lampu ini sesuai dengan standar peralatan semikonduktor internasional, sehingga dapat digunakan tanpa perlu menyesuaikan seluruh komponen peralatan lagi.
Beberapa catatan praktis Pemasangan lampu ini dilakukan dengan cara menyelaraskan antarmuka koneksi peralatan dengan lampu tersebut, serta memastikan tegangan yang digunakan sesuai. Jika koneksi kabel tidak sesuai, maka konsistensi suhu akan terganggu. Lampu ini dapat digunakan bersama stasiun pemanasan standar, tetapi geometri reflektor harus disesuaikan dengan ukuran wafer. Lakukan kalibrasi cepat setelah lampu dipasang, agar parameter proses tetap sesuai dengan standar yang ditetapkan.